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QuantumClean®和ChemTrace®将参展SEMICON China 2018

2018-2-24 19:57| 发布者: 美通社| 查看: 1461| 评论: 0


宾夕法尼亚州夸克敦2018年2月24日电 /美通社/ -- QuantumCleanChemTrace将参展3月14-16日在上海新国际博览中心举行的2018国际半导体设备、材料、制造和服务展览暨研讨会(SEMICON China 2018),展位号为2707。

Quantum Global Technologies, LLC总裁兼首席执行官斯科特-尼古拉斯(Scott Nicholas)表示:“QuantumClean的超高纯度半导体工艺腔室零部件清洗,涂层和分析测试中心能够帮助我们的工厂,原始设备制造商(OEM)和原始配件制造商(OPM)客户降低拥有成本。经过分析验证的超精密零件可以加速腔室恢复和延长平均清洗间隔时间。经过优化的清洗方法和自主研究开发的再涂层技术能够帮助延长零件使用寿命。精益生产线提供快速的零件周转时间,从而降低库存成本。我们是唯一一家能够提供获公认实验室ChemTrace的化验证明书(Certificate of Analysis)验证的超高纯度腔室零部件清洗的公司。

ChemTrace销售总监Surjany Russell表示:“ChemTrace根据严格的质量保证标准运作,并独立通过ISO 17025:2005认证。今年是我们提供半导体工艺相关的腔室零部件、晶圆、清洗室材料、超纯水,高纯度和复杂化学品卓越的微污染分析服务25周年。”

欢迎各界人士参观展位,了解我们的服务如何通过解决关键工艺腔室制造挑战问题,来改进客户营运。


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